طبق گزارش، دستاورد جدید شیائومی در حوزه تراشه بهنام XRING O1 یک پیشرفت مهندسی قابل توجه محسوب میشود و احتمال دارد نگرانیهایی را برای دولت ایالات متحده بههمراه داشته باشد. این تراشه، مشابه محصولات دیگر، با استفاده از فناوری نانومتری ۳ نانومتری N3E شرکت TSMC ساخته میشود. با این حال، این موفقیت ممکن است با […]
طبق گزارش، دستاورد جدید شیائومی در حوزه تراشه بهنام XRING O1 یک پیشرفت مهندسی قابل توجه محسوب میشود و احتمال دارد نگرانیهایی را برای دولت ایالات متحده بههمراه داشته باشد. این تراشه، مشابه محصولات دیگر، با استفاده از فناوری نانومتری ۳ نانومتری N3E شرکت TSMC ساخته میشود. با این حال، این موفقیت ممکن است با موانعی روبهرو شود، زیرا ممنوعیت انتقال ابزارهای طراحی تراشه EDA توسط دولت ترامپ به چین، چالشهای جدیدی را بهوجود میآورد، چرا که این ابزارها برای تولید تراشههای دو نانومتری حیاتی بهحساب میآیند.
بهنقل از منابع آگاه، بهدلیل اینکه فناوری دو نانومتری TSMC بر پایه ساختار ترانزیستورهای GAAFET قرار دارد، دسترسی شیائومی به ابزارهای EDA اهمیت زیادی پیدا میکند.
شیائومی امیدوار است در کنار شرکتهایی مانند اپل، کوالکام و مدیاتک، جزو مشتریان نسل جدید تراشه دو نانومتری باشد. با این حال، محدودیتهای اعمالشده توسط آمریکا ممکن است شرکت چینی را وادار کند که همچنان به فناوری ۳ نانومتری N3E متکی باشد.
بهنظر میرسد که شیائومی برای دسترسی به آخرین تکنولوژیهای تراشههای موبایل، همچنان به تولیدات کوالکام و مدیاتک وابسته خواهد بود. گفته میشود این دو شرکت بهزودی از تراشههای اسنپدراگون ۸ الیت نسل ۲ و دیمنسیتی ۹۵۰۰ پردهبرداری میکنند.
محدودیتهای فزاینده در صادرات فناوریهای پیشرفته به چین، این کشور را به توسعه ابزارهای بومی EDA ترغیب میکند. اما سوال اصلی اینجاست که آیا چین قادر خواهد بود این ابزارها را با سرعت و کیفیت مطلوب تولید کند یا خیر.
در آینده، ممکن است ایالات متحده تحریمهای جامعتری علیه شیائومی وضع کند و همکاریهای این شرکت با شرکتهای بزرگی مانند TSMC یا سامسونگ را بهطور کامل متوقف کند. اگر چنین شود، نیاز چین به توسعه تجهیزات لیتوگرافی EUV بومی بیشتر خواهد شد.
منبع: خبر آنلاین
دیدگاهتان را بنویسید